DH-350 PECVD等離子體增強化學氣相沉積設備銷售【上海雙旭】
直流輝光等離子體實驗裝置由可拆卸的氣體放電管、測量系統、真空系統、進氣系統和水冷系統等部分組成;工作氣體、工作氣壓、電極距離等參數均可靈活地調控。可完成的實驗有：湯森第一電離系數a及比值a/p的測定；直流低氣壓放電現象觀察及伏安曲線的測量;氣體擊穿電壓的測定及帕邢定律驗證實驗。
微波CVD薄膜制備裝置為一高效微波等離子體化學氣相沉積制備設備，可用于生長金剛石薄膜、碳納米管、氮化硅、碳化硅等超硬膜，具有生長速度快、操作簡便、性價比高等優點。適合大學物理、材料、化學等領域的學生實驗及教師科學研究。
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